반도체와 디스플레이 산업은 고도화되는 공정 환경에 대응하며 온실가스, VOCs, NOx 등 다양한 배출물질을 안정적으로 관리해야 합니다.
희성촉매는 반도체·디스플레이 제조공정에서 발생하는 온실가스와 배출가스 저감을 위한 촉매 기술은 물론, 가스 정제와 PGC 도금재료 등 관련 소재 기술을 통해 더 깨끗하고 안정적인 제조환경을 만드는 데 기여합니다.
고도화되는 공정, 정교해지는 환경 관리
반도체와 디스플레이 제조공정에서는 식각, 증착, 세정, 코팅·건조 등 다양한 단계에서 서로 다른 배출물질이 발생합니다. 공정에 사용하는 가스와 운전 조건이 다양해질수록 온실가스와 VOCs, NOx 등 배출 특성을 정확히 파악하고 각 공정에 맞는 처리 기술 적용이 필요합니다.
특히 반도체 제조에 사용되는 PFCs, NF₃, N₂O 등은 온실가스 관리에서 중요한 대상이며, 안정적인 생산과 제품 품질을 위해서는 공정가스의 정제와 소재 품질까지 함께 고려해야 합니다.
반도체 제조공정에서 발생하는 PFCs, NF₃, N₂O 등 온실가스 저감
코팅·건조 등 디스플레이 공정에서 발생하는 VOCs와 배출가스 관리
제조공정에 사용되는 가스의 안정적인 정제와 품질 확보
고도화되는 제조공정에 필요한 촉매·소재 기술의 안정적인 적용
관련 제품
온실가스 저감 촉매
반도체 제조공정에서 발생하는 PFCs, NF₃, N₂O 등 온실가스를 안정적으로 처리하는 데 적용합니다. 공정가스의 조성과 온도, 운전 조건에 맞는 촉매 기술을 통해 높은 분해 성능과 안정적인 장기 운전을 돕습니다.
VOC 산화촉매
디스플레이를 비롯한 다양한 제조공정의 코팅·건조 단계에서 발생하는 VOCs를 줄이는 데 활용됩니다. 공정별 배출 특성과 운전 온도에 맞는 촉매 기술을 통해 안정적인 산화 성능과 배출가스 관리를 가능하게 합니다.
가스 정제 촉매
반도체·디스플레이 제조공정에서 사용하는 가스의 불순물을 제거해 공정 안정성과 제품 품질을 높이는 데 적용됩니다. 가스 조성과 순도 요건에 맞는 정제 기술로 후단 공정의 안정적인 운영을 돕습니다.
PGC 도금재료
반도체 기판과 관련 부품의 도금 공정에 사용되는 귀금속 기반 소재입니다. 희성촉매는 다양한 생산·가공 조건에 대응하는 PGC 도금재료를 통해 안정적인 도금 품질과 제조공정의 일관성을 높이는 데 기여합니다.
